слой кремния, полученный методом химического осаждения из паровой фазы

слой кремния, полученный методом химического осаждения из паровой фазы
cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического осаждения из паровой фазы, m pranc. couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur, f

Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. . 2000.

Игры ⚽ Нужен реферат?

Share the article and excerpts

Direct link
Do a right-click on the link above
and select “Copy Link”